摘要:米格列醇作为脱氧野尻霉素衍生物,在小肠上段几乎全部吸收入血,因此对胰淀粉酶和α-葡萄糖苷酶具有高亲和力。相关研究表明,米格列醇对蔗糖酶的亲和力是阿卡波糖的15000倍,可显著增加餐后胰高血糖素样肽1(GLP-1)的释放,且减轻体质量的效果优于其他α-葡萄糖苷酶抑制剂,非常适合肥胖的2型糖尿病使用。米格列醇属于α-葡萄糖苷酶抑制剂,该类药物可通过葡萄糖苷水解酶的活性,减少蔗糖及多糖分解为葡萄糖,进而缓解葡萄糖的吸收,主要用于降低餐后血糖,是一款适合我们中国人降低2型糖尿病患者的首选药物。米格列醇优势突出在有利于控制2型糖尿病患者的心血管风险、肝功能异常时也可以使用、胃肠道不良反应相对较少等。本文不仅研究了米格列醇API的化学工艺路线,还研究了米格列醇的工艺杂质、酸、碱、氧化等降解杂质。
关键词:米格列醇;α-葡萄糖苷酶抑制剂;化学合成;工艺杂质;降解杂质。
1.引言
传统的α-糖苷酶抑制药降糖药物(阿卡波糖、伏格列波糖),用于降低糖耐量降低的餐后血糖升高的患者,具有较好的疗效,但是仍然有一些美中不足,一些患者使用效果不够理想,而新药米格列醇可以堪当重任,弥补了阿卡波糖的许多不足,总体来说,它有诸多优势值得使用。2021年被纳入国家第五期国家药品集采,米格列醇片(50mg)仅两家企业中标,其中标价为1.33元/片。米格列醇是唯一一个不受国家药品集采影响的α-葡萄糖苷酶抑制剂,连续多年保持增长的状态,2022年,全国医院和药店销售金额达4-5亿元,预计在2030年有望突破10亿元。米格列醇是一款适合我们中国人降低2型糖尿病患者的首选药物。
本文通过对米格列醇API化学合成路线和有关物质的研究,包括工艺杂质、降解杂质等,提供了全面杂质和杂质生产研究过程,并进行常规图谱表征。
1.米格列醇API常见化学合成路线
1.1 文献Carbohydrate Research, 2016, 435, 1-6的化学合成路线A(见图1)
1.2专利报道的化学合成路线B(见图2)
1.3 Z.-X. Zhang et al. / Tetrahedron Letters 52 (2011) 3802–3804的化学合成路线C(见图3)
1.4 印度专利报道的化学合成路线D(见图4)
在此,笔者已经透彻地研究了改良路线:以商品化的1-脱氧野尻霉素为原料,首先进行氨基和羟基保护,随后和溴乙醇取代,最后氢化得到米格列醇。各步反应都适合工艺放大,各类中间体都是固体,API各杂质可控,符合申报要求。如有感兴趣者,请联系湖北摩科研发部。
2.杂质研究
2.1高温及酸降解杂质
米格列醇及米格列醇片剂在高温条件下会产生脱水、开环、部分碳原子消旋等杂质,对酸也不算稳定,两种破坏产生常见杂质如下图5所示。
米格列醇及米格列醇片剂在对碱相对稳定,不容易产生其他杂质。
2.3 氧化降解杂质
米格列醇及米格列醇片剂长时间暴露在空气中,容易被氧气通过自由基氧化成具有基因毒性的氮氧化合物M036008,杂质如下图6所示。
目前无论是生物发酵法还是半化学合成法,还是全化学合成法,都会产生相关工艺杂质,此项目相关杂质见表1。如有感兴趣者,该项目详细杂质研究细节及图谱(如HPLC、LC-MS、1HNMR等)分析可联系摩科研发部获取资料。
备注:本文中涉及的杂质编号,字母+数字编号,如“M036008”属于摩科公司内部编号,项目详细杂质信息请前往摩科杂质对照品官网,https://www.molcoo.com。
3.结论
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关键词:米格列醇;α-葡萄糖苷酶抑制剂;化学合成;工艺杂质;降解杂质。
1.引言
传统的α-糖苷酶抑制药降糖药物(阿卡波糖、伏格列波糖),用于降低糖耐量降低的餐后血糖升高的患者,具有较好的疗效,但是仍然有一些美中不足,一些患者使用效果不够理想,而新药米格列醇可以堪当重任,弥补了阿卡波糖的许多不足,总体来说,它有诸多优势值得使用。2021年被纳入国家第五期国家药品集采,米格列醇片(50mg)仅两家企业中标,其中标价为1.33元/片。米格列醇是唯一一个不受国家药品集采影响的α-葡萄糖苷酶抑制剂,连续多年保持增长的状态,2022年,全国医院和药店销售金额达4-5亿元,预计在2030年有望突破10亿元。米格列醇是一款适合我们中国人降低2型糖尿病患者的首选药物。
本文通过对米格列醇API化学合成路线和有关物质的研究,包括工艺杂质、降解杂质等,提供了全面杂质和杂质生产研究过程,并进行常规图谱表征。
1.米格列醇API常见化学合成路线
1.1 文献Carbohydrate Research, 2016, 435, 1-6的化学合成路线A(见图1)

图1 米格列醇化学合成路线A
路线A存在非对映异构体Undesired 1难以控制,API纯化困难,且总收率低等弊端
1.2专利报道的化学合成路线B(见图2)
图2 米格列醇化学合成路线B
路线B以商品化的2,3,4,6-四苄基-D-吡喃葡萄,还原成中间体2,随后进行斯文氧化,得到的中间体醛酮3,不需要纯化,直接进行还原胺化得到中间体4,这步会产生副产物Undesired 2,纯化困难,收率不高,总收率较低。
1.3 Z.-X. Zhang et al. / Tetrahedron Letters 52 (2011) 3802–3804的化学合成路线C(见图3)

图3米格列醇化学合成路线C
路线C以商品化的2,3,4,6-四苄基-D-吡喃葡萄,还原成中间体2,随后进行伯羟基保护,得到的中间体3,随后进行光延反应得到中间体4,此步已经用HPLC和HNMR进行鉴定,100%的翻转;随后皂化得到固体中间体5。随后上双OMs,不需要纯化,直接和乙醇胺反应得到中间体7,采用成盐方法纯化,纯度可达99.5%。最后氢化得到米格列醇,API各杂质可控,符合申报要求。1.4 印度专利报道的化学合成路线D(见图4)

4米格列醇化学合成路线D
路线D以商品化的1-脱氧野尻霉素,在碱性条件下直接进行取代反应得到米格列醇,纯化困难,各类杂质丰富,难以达到申报要求。在此,笔者已经透彻地研究了改良路线:以商品化的1-脱氧野尻霉素为原料,首先进行氨基和羟基保护,随后和溴乙醇取代,最后氢化得到米格列醇。各步反应都适合工艺放大,各类中间体都是固体,API各杂质可控,符合申报要求。如有感兴趣者,请联系湖北摩科研发部。
2.杂质研究
2.1高温及酸降解杂质
米格列醇及米格列醇片剂在高温条件下会产生脱水、开环、部分碳原子消旋等杂质,对酸也不算稳定,两种破坏产生常见杂质如下图5所示。

图5米格列醇高温及酸降解杂质
2.2碱降解杂质米格列醇及米格列醇片剂在对碱相对稳定,不容易产生其他杂质。
2.3 氧化降解杂质
米格列醇及米格列醇片剂长时间暴露在空气中,容易被氧气通过自由基氧化成具有基因毒性的氮氧化合物M036008,杂质如下图6所示。

图6米格列醇氧化降解杂质
2.3工艺杂质(见图7)目前无论是生物发酵法还是半化学合成法,还是全化学合成法,都会产生相关工艺杂质,此项目相关杂质见表1。如有感兴趣者,该项目详细杂质研究细节及图谱(如HPLC、LC-MS、1HNMR等)分析可联系摩科研发部获取资料。
备注:本文中涉及的杂质编号,字母+数字编号,如“M036008”属于摩科公司内部编号,项目详细杂质信息请前往摩科杂质对照品官网,https://www.molcoo.com。
3.结论
表1米格列醇工艺中间体及工艺和API杂质、CAS号、摩科货号
| 杂质名称 | 结构式 | CAS号 | 摩科货号 |
| 米格列醇API | ![]() |
72432-03-2 | M036000 |
| 米格列醇杂质1 | ![]() |
1445783-86-7 | M036001 |
| 米格列醇异构体A | ![]() |
1370331-33-1 | M036002 |
| 米格列醇异构体B | ![]() |
132310-34-0 | M036003 |
| 米格列醇异构体C | ![]() |
1550201-56-3 | M036004 |
| 米格列醇杂质5 | ![]() |
1445783-88-9 | M036005 |
| 米格列醇杂质6 | ![]() |
N/A | M036006 |
| 米格列醇杂质7 | ![]() |
19130-96-2 | M036007 |
| 米格列醇杂质8 (氧化杂质) |
![]() |
2230722-74-2 | M036008 |
| 米格列醇杂质9 (脱水杂质) |
![]() |
N/A | M036009 |
| 米格列醇杂质10 (工艺杂质) |
![]() |
1221793-46-9 | M036010 |
| 米格列醇杂质11 (工艺杂质) |
![]() |
122371-65-7 | M036011 |
| 米格列醇杂质12 (工艺杂质) |
![]() |
72983-76-7 | M036012A |
| 米格列醇杂质13 (工艺杂质) |
![]() |
69567-10-8 | M036013 |
| 米格列醇杂质14 (脱水杂质) |
![]() |
1824645-71-7 | M036014 |
| 米格列醇杂质15 (工艺杂质) |
![]() |
139612-34-3 | M036015 |
| 米格列醇杂质16 (工艺杂质) |
![]() |
N/A | M036016 |
| 米格列醇杂质17 (工艺杂质) |
![]() |
2230715-33-8 | M036017 |
| 米格列醇杂质18 (工艺杂质) |
![]() |
N/A | M036018 |
| 米格列醇杂质19 (工艺杂质) |
![]() |
2230715-72-5 | M036019 |
| 米格列醇杂质20 (工艺杂质) |
![]() |
1262984-78-0 | M036020 |
| 米格列醇杂质21 (工艺杂质) |
![]() |
N/A | M036021 |
| 米格列醇杂质22 (工艺杂质) |
![]() |
2108006-25-1 | M036022 |
| 米格列醇杂质23 (工艺杂质) |
![]() |
308273-87-2 | M036023 |
| 米格列醇杂质24 (工艺杂质) |
![]() |
N/A | M036024 |
| 米格列醇杂质25 (开环杂质) |
![]() |
54662-27-0 | M036025 |
| 米格列醇杂质26 (工艺杂质) |
![]() |
142345-67-3 | M036026 |


























